Unikalne urządzenie do pokrywania powierzchni materiałów jonami opracowali naukowcy z Instytutu Fizyki Plazmy i Laserowej Mikrosyntezy w Warszawie. Polacy zbudowali źródło laserowe z unikalnym układem przyspieszania jonów do wybranej energii, dzięki któremu materiały można pokrywać jonami. Wynalazek umożliwi produkcję półprzewodników nowej generacji, eliminuje przy tym zanieczyszczenia powstające podczas tego procesu.